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半導體產(chǎn)業(yè)中如何使用臭氧

發(fā)布日期:2020-05-29  瀏覽次數(shù):

半導體產(chǎn)業(yè)中如何使用臭氧

近年來,在半導體工業(yè)中,對臭氧應用的興趣大大增加。迄今為止,已經(jīng)確立了將臭氧用于清潔晶片的用途。利用了臭氧在水相中氧化有機和金屬污染物的事實。
半導體產(chǎn)業(yè)中如何使用臭氧(1)
臭氧在半導體工業(yè)中的應用包括
+濕法清潔
+TEOS 
+CVD 
+干洗
+疏水性

硅片清洗過程中的主要流程,通過臭氧水在硅片表面形成氧化膜,然后利用HF(氟化酸)去除氧化膜,并使用SC1、SC2去除顆粒及金屬污染, 很后,再使用臭氧水在硅片表面形成氧化膜,防止硅片表面再受污染。

北京同林提供高濃度臭氧發(fā)生器,臭氧濃度可達300mg/L,臭氧水濃度可50ppm~100ppm。